目前,隨著中國電子、半導體、集成電路等行業的快速發展,使得潔淨室工程行(háng)業得到了前所未有的發展。目前,在潔淨(jìng)室工(gōng)程行業,工程(chéng)設計處在產業鏈上遊,土建和潔淨室(shì)施工處在下遊,受益於行(háng)業發展,競爭格局日趨穩(wěn)定。
不過,潔淨室行業依(yī)然著競爭,而這種競爭隨著各個行業的發展而深刻改變。總體來看,潔淨室工(gōng)程行業的變化趨勢主要體現在3個方向:競爭方向轉變,節能發展,以及(jí)高端(duān)潔淨技術的探索(suǒ)。
1、競爭方向轉變:由(yóu)價格競爭(zhēng)轉變為價值競爭
隨著電子產品(pǐn)的集成化、密化、微(wēi)型化(huà)、功能化等趨勢,對元器件的(de)可靠性要求越來(lái)越高,電子信息製造業對潔淨室的要求標(biāo)準也更加嚴格。
微量(liàng)的髒汙或微弱的靜電都有(yǒu)可(kě)能造成元器件產品良品率的大幅降(jiàng)低,直接影響公司的效(xiào)益(yì)。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已(yǐ)經(jīng)下降到3V以內,部(bù)分(fèn)IC的封裝環境要(yào)求達到(dào)Class10甚至Class1的水平(píng)。
電子信息行業的技術發展(zhǎn)和高性能要求促(cù)使潔淨室工程行業企業由價格競(jìng)爭轉向技術競爭,隻有具備技術研發、自主創新能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發展,才能設計和建造符合要(yào)求的高端的潔淨室,相關(guān)技術和(hé)服務能力的提升將成為未來市場競爭(zhēng)的焦點。
2、節能化成為潔淨室重要目標
潔(jié)淨(jìng)廠房是(shì)我國的耗能大戶之一,據不完全統計,潔(jié)淨室的(de)能耗是一般寫字樓的10~30倍,我國的8英寸芯片廠,潔淨室單位麵積能耗比美國同型工廠高15%(美國耗能1.28kW/m2~1.63kW/m2,而中(zhōng)國耗能1.48kW/m2~1.93kW/m2)
以上海某知名芯片廠為例,其全(quán)年耗電量51%是用於潔淨室運行及相關的維護,如果將51%的能耗合理降低(dī),對企業來(lái)說就意味著利潤的增長。
因此,潔(jié)淨(jìng)室下(xià)遊(yóu)相(xiàng)關行業企業越來越重視(shì)潔淨室的節能問題。這就要求(qiú)潔淨室工程行業企業,從客戶需求出發,從設計理念、建(jiàn)造(zào)施工、設備配(pèi)備及運行(háng)等各個方(fāng)麵進行節能設計(jì),隻有采取全方位的節能技術,整個潔淨室行業才能持續、良性發展。
3、向控製空氣(qì)分子汙染等高端潔淨技術方(fāng)向發(fā)展
空氣分子汙染(AirborneMolecularContaminants,簡稱AMC)作為IC工(gōng)廠所關心的問題於20年前最先由日本人提出,近年來,世界IC技術發展迅速,IC芯片(piàn)日益微型化,目前已經有直徑為(wéi)0.4mm的世界最小(xiǎo)的非接觸型無線射(shè)頻識別芯片。
AMC對當前的IC生產其潛在的汙(wū)染(rǎn)比粒子汙染要廣泛多,粒子汙染控(kòng)製隻需要確定粒徑及個數,但對AMC控製而言,除了受芯片線寬的(de)縮小而變化外,並受工藝、工藝設備、工(gōng)藝材料及傳送係統等(děng)的影響;更有甚(shèn)者用於(yú)某一工(gōng)序的各種工藝材料(化學品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子殘餘對下一工序往往可(kě)能就是汙染物。
因此,IC生(shēng)產過程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環境中,AMC已成為嚴(yán)重影響成品率的重要問題,AMC分子控製技術成為潔淨室設計與施(shī)工建設(shè)的主流趨勢。
目前,國內的潔淨室工程行業企業(yè)中已經開始從事此方向的研究,在該領域比較(jiào)領(lǐng)先的企業有亞翔集成,在分子淨化技術(shù)方麵該公(gōng)司已(yǐ)經走在了同行(háng)業的前列。
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